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IR Drop与封装(一)

小蔡读书 2021-08-18
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        1.前言

     

       大部分从事后端设计的同行应该没有接触过带封装的IR Drop分析(模块级别的IR分析不需要考虑封装),一般只有PA工程师、后端项目经理、封装同事等才会接触这一部分内容。为啥要聊这一块呢?首先看下完整的供电路径(如下图):板级电源模块(VRM:Voltage Regulator Module)的电流经过PCB上的引线到达PCB的电源平面,通过Bump到达封装的管脚,再通过封装基板芯片的PAD,再通过芯片内的电源网络到达晶体管电源的端口地的回路和电源类似,电源和地的电流路径形成了完整的供电路径



      上图的供电路径等效电路图如下图所示,可见在VRM对晶体管供电的过程中,由于每一段供电路径都有等效的电阻、电感、电容,所以每一段也都有相应的电压降



       当整体考虑电源分布时,实际上涉及芯片上芯片外的问题,这些问题从直流到直流转换器开始,包括PCB,电源分布(power plane),封装、插槽、电源管脚或焊接块等,最后是与门的连接。正确的电源网格设计需要系统设计工程师、热学设计师、系统架构设计师、电路板设计师和芯片设计者的共同工作。这个问题需要整体优化而不仅是局部的芯片级优化

       后端工程师只需要分析Die+PKG部分(但是应该记住这仅是整个设计问题的一部分),整体电源网络仿真分析应由封装或者系统的同事完成,因此本文讨论的范围限于Die+PKG部分,如下图:


2.封装上的电压降


       在纳米尺寸设计中,除了计算芯片的电压降外,还要考虑与封装相关的电压降。总电压降的大小Vtotal 由电源凸点到逻辑门单元之间等效电阻R及封装导线的电感值L决定,并由欧姆定律决定Vir,chip = I*R,I为通路电流,Vl = L*di/dt,则Vtotal值如下所示。



       封装电感对电压降的影响,如下图所示的两种封装形式,其中图(a)为DIP(dual in-line)封装,图(b)为BGA(ball grid array)封装,前者的封装电感为1-2nH,而后者的封装电感为0.1-0.2nH.



        假设20mA的电流在200ps内通过电源网络给内部节点供电时,其消耗在DIP和BGA封装导线上的电压降和地弹的总值(作用于两条线路)分别计算得400mV和40mV:



       由此可见,随着工艺的发展,core供电电压在下降,从0.9V(65nm) 0.8V(16nm) 0.75V(7nm),封装导线所产生的电压降变得尤其突出,需要通过封装形式的改进减小电压降的值。在数模混合芯片中尤其要注意,数字core逻辑部分不管是die内电源走线还是PKG上的走线,都要保证足够强壮,不能认为数字逻辑部分instance比较少只要连起来就可以了


参考文献:

 1.《数字集成电路物理设计》陈春章

 2. 《数字集成电路分析与设计--深亚微米工艺》

 3.《入门电源完整性》


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